光学行业超纯水设备工艺流程及优点简介
【上海纯水设备http://www.gmpchs.com】光学行业超纯水设备工艺流程及优点简介超纯水是指既将水中的导电介质几乎完全去除,又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。超纯水的电阻率一般在18MΩ*cm左右或接近18.25MΩ*cm极限值。
一般的纯水设备工艺很难达到超纯水设备的水质要求,采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤,多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法,电阻率方可达18.25MΩ*cm。
超纯水设备采用的是目前较为先进的EDI去电离子系统,其电阻率可达18MΩ*cm以上。
超纯水系统工艺流程
原水→原水加压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→软水器→反渗透主机→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→精制混床→0.2μm精密过滤器→用水点。纯水设备,半导体超纯水设备, 苏州水处理设备,医用GMP纯化水设备 ,医用水处理设备。
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